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经营模式: | 生产加工 |
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公司地址: | 苏州工业园区新平街388号腾飞创新园23幢5层04室5529C号房间 |
发布时间:2022-09-07 13:38:22
研磨RIE
RIE是干蚀刻的一种,这种蚀刻的原理是,当在平板电极之间施加10~100MHZ的高频电压(RF,radio frequency)时会产生数百微米厚的离子层,在其中放入试样,离子高速撞击试样而完成化学反应蚀刻,此即为RIE(Reactive Ion Etching)。苏州特斯特电子科技有限公司,主要从事各类测试、检测仪器设备的代理销售和技术服务,产品涵盖电子元器件,电路板,线缆线束的测试与检测。
自动研磨机适用于高精微(光镜,SEM,TEM,AFM,ETC)样品的半自动准备加工研磨抛光,模块化制备研磨,平行抛光,角抛光,定址抛光或几种方式结合抛光,主要应用于半导体元器件失效分析,IC反向等领域,实现断面精细研磨及抛光、芯片工艺分析、失效点的查找等功能。 其可以预置程序***切割不同尺寸的各种材料,可以高速自动切割材料,提高样品生产量。其微处理系统可以根据材料的材质、厚度等调整步进电动机的切割距离、力度、样品输入比率和自动进刀比率等。
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激光开封的方法主要应用场合:
(1) 半导体器件的失效分析开封。塑封材料的和去除,取代传统的低效率***开封,解决***开封对铜线及内部器件的***。
(2) 塑封工艺设计和工艺参数有效性的验证。解决X射线无法检测铝线塑封后冲丝塌陷的问题,使完全开封后对铜线金线的打线点的仔细观察成为可能。
(3) 应用于模块使用厂家,进料检验时完全打开器件以观察内部是否存在设计或生产缺陷。
激光开封机性能指标:
功率调节范围:10%~100%。
光束直径:7~8mm。
光束质量:1.3~1.7。
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